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新型半导体研磨废水回收设备

养殖污水处理_煤矿印染污水处理设备厂家
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申请日 20200423

公开(公告)日 20210129

IPC分类号 C02F9/00; C02F101/20

摘要

本实用新型涉及半导体研磨水处理技术领域,公开一种新型半导体研磨废水回收装置。半导体研磨废水经过小型过滤器注入混合水箱,混合水箱上方布置搅拌器,水泵进水口与混合水箱连接,水泵出口与净化设备连接,然后净化设备出水端与手动球阀连接,达标回收到用水点。本实用新型提供的新型半导体研磨废水回收装置是一种节省占地面积,无二次污染,产水水质优质,自动化程度高,产品质量均匀及稳定的设备。



权利要求书

1.一种新型半导体研磨废水回收装置,其特征在于,半导体研磨废水经过小型过滤器(23)注入混合水箱(6),所述混合水箱(6)上方布置搅拌器(5),水泵(7)的进水口与所述混合水箱(6)连接,所述水泵(7)的出水口与净化设备(9A、9B、9C、9D)的进水端连接,然后所述净化设备(9A、9B、9C、9D)的出水端与手动球阀(20)连接,达标回收到用水点。

2.根据权利要求1所述的新型半导体研磨废水回收装置,其特征在于,所述半导体研磨废水经过所述小型过滤器(23)注入所述混合水箱(6),中间有手动球阀(4)控制进出水,所述混合水箱(6)上方布置所述搅拌器(5),所述搅拌器(5)起到均匀混合半导体研磨废水。

3.根据权利要求1所述的新型半导体研磨废水回收装置,其特征在于,所述水泵(7)的进水口与所述混合水箱(6)连接,中间有手动球阀(8)方便控制进水流量。

4.根据权利要求1所述的新型半导体研磨废水回收装置,其特征在于,所述水泵(7)的出水口分别与所述净化设备(9A、9B、9C、9D)连接,然后所述净化设备(9A、9B

9C、9D)的出水端与手动球阀(20)连接,达标回收到用水点,中间有进水电动阀(13、14、15、16、17)、压力表(12)和浮子流量计(19)。

说明书

一种新型半导体研磨废水回收装置

技术领域

本实用新型涉及半导体研磨水处理技术领域,尤其涉及一种新型半导体研磨废水回收装置。

背景技术

根据目前市场半导体行业的竞争激烈,行业内需要节省企业运行成本,行业废水排放标准的提高,环境问题日益突出,急需更经济及高效的先进的处理装置。

传统研磨废水处理装置投资成本高,占地空间大,操作消耗大量人工,操作不易自动化,维修成本高,处理废水的过程中产生二次污染,为此生产出本实用新型。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种新型半导体研磨废水回收装置,以此解决上述各种问题。

本实用新型为解决上述各种问题是采取如下技术方式来实现的:

一种新型半导体研磨废水回收装置主要包括:半导体研磨废水经过小型过滤器注入混合水箱,混合水箱上方布置搅拌器,水泵进水口与混合水箱连接,水泵出口与净化设备连接,然后净化设备出水端与手动球阀连接,达标回收到用水点。

具体描述的,所述半导体研磨废水经过小型过滤器注入混合水箱,截留了部分研磨废水中混杂的大颗粒物,避免给后续处理设备增加负担,混合水箱上方布置搅拌器,使得进水充分的混合均匀,更有利于后续的设备工作,水泵进水口与混合水箱连接。

具体描述的,然后净化设备出水端与手动球阀连接,通过净化设备里面独特的结构及运行方式,可以达到很好的固液分离效果,达标回收到用水点。

与传统半导体研磨废水处理装置相比,本实用新型优点如下:

1有效节约建设面积:比传统导体研磨废水装置占地面积减少50%以上;

2运行费用低:不需要大功率搅拌装置;

3不堵塞:由压缩空气反洗,不易污堵;

4产水水质好:重金属离子达标排放,产水浊度小于001,可直接进RO系统;

5自动化程度高,无人值守,远程监控;

6实现废水回收,节约用水,回收率高:回用水的回收率可达98%。

发明人 (刘洋;赵衍平;王硕;刘超;赵克宇;)



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